決戰五奈米先進製程,IBM攜手三星、格羅方德搶頭香 – 新聞

2017-06-06 07:30:21 記者 陳瑞哲 報導美國科技巨擘IBM在先進製程上有重大突破,IBM周一宣布,已與三星、格羅方德(GlobalFoundries)共同開發出新nanosheet技術,可將電晶體進一步微縮至5奈米,將用以生產全球第一顆5奈米晶片。(韓聯社)IBM於2015年7月推出業界第一顆7奈米晶片,當時三星、格羅方德也是合作夥伴。IBM說與市面上最頂尖的10奈米晶片相比,5奈米效能可提高四成,若以同樣輸出效能做比較,5奈米耗電量少75%。IBM半導體設備主管Huming Bu說,為了開發5奈米製程,研究團隊必須藉助極端紫外光(EUV) 微影技術,這是EUV機台首度應用在前端製程(Front end of line)上。EUV波長(13.5奈米)遠比浸潤式微影(193奈米)小,可簡化曝光程序。(arstechnica.com)三星上月24日在年度晶圓代工論壇上宣布,要在5奈米、4奈米等先進製程取得領先,明年則將率先在7奈米應用EUV科技。*編者按:本文僅供參考之用,並不構成要約、招攬或邀請、誘使、任何不論種類或形式之申述或訂立任何建議及推薦,讀者務請運用個人獨立思考能力,自行作出投資決定,如因相關建議招致損失,概與《精實財經媒體》、編者及作者無涉。

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